
一、雙工位氫氣爐用途
本產品可用于高真空或保護氣氛環境下進行加熱、燒結、退火、釬焊等工藝的熱處理設備,廣泛應用于金屬、陶瓷、半導體、粉末冶金等領域。具有溫度均勻性好、控溫精度高、無氧化、節能環保等特點。氫氣爐中的氫氣對材料具有良好的還原性,氫氣爐配備了好的溫度控制系統,實現控溫準確,使材料處理過程符合嚴苛的工藝要求。但在使用過程中要注意氣路、電路及水系統的安全,尤其要防止漏入空氣,以免引起高溫氫氣自然爆炸事故。
二、設備基本信息
本設備可兩個工位同時工作。
三、主要技術指標
1.工件材質:陶瓷、無氧銅、可伐、鎢等;
2.設備形式:內熱式;
3.裝載量:30KG;
4.有效區尺寸:立式Φ200(直徑)× 300(高)mm;
5.峰值溫度:1550℃;
6.工作溫度:1450℃;
7.溫度均勻性:±5 ℃(850、950、1050、1150、1300℃,5點測量);
8.升溫速率:1-20℃/min;
9.冷態極限真空度:2kPa;
10.真空系統:預抽真空系統;
11.冷卻系統:無快冷系統;
12.工藝氣氛:H2、N2;
13.選配項目:托料盤、濕氫系統;
14.爐子結構為爐底固定,爐罩上升方式;

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